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更新日期：2024-03-22
簡要描述：
日本kurabo液體成分濃度計ChemicAlyzerChemicAlyzer 是一種液體成分濃度計，采用采用光吸收原理的在線設計實現連續測量。
日本kurabo液體成分濃度計ChemicAlyzer
ChemicAlyzer 是一種液體成分濃度計，采用采用光吸收原理的在線設計實現連續測量。自 1990 年開始作為紅外液體成分濃度計的先驅開展業務以來，我們利用我們豐富的專業知識和技術，通過響應測量來應對質量和化學濃度方面不斷發展的半導體器件制造過程需求，支持的管理。
我們將通過靈活應對工藝和特殊化學品，以及通過高精度化學濃度測量“提前應對測量需求"，繼續為優化制造工藝做出貢獻。
?抗蝕劑剝離劑的濃度控制
?再生化學品的濃度管理
?后處理化學品的濃度控制
?酸堿清洗液的濃度控制
?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制
?其他特殊化學品的濃度管理
此外，它還廣泛應用于電池材料制造過程和清酒和醋的發酵測量等行業。
因其高性能測量技術而受到高度評價，已在日本、東亞和美國銷售超過 3,000 臺！
| 測量方法 | 近紅外透射光譜 |
|---|---|
| 最短測量時間 | 2 秒 |
| 測量值輸出 | DC4-20mA |
| 輸入信號 | 晶體管電流驅動輸入（測量、校準、預熱結束等） |
| 輸出信號 | 集電極開路輸出（READY、BUSY、設備錯誤、測量、成功、上下限報警等） |
| 接液部分材料 | 石英池規格：PFA、PTFE、石英（池）、全氟（O 型圈） 藍寶石 池規格：PFA、PTFE、藍寶石（池）、Kalrez（O 型圈） |
| 最大工作壓力 | 0.2MPa |
| 管道直徑 | IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3(mm) 含1m管 |
| 主要用途 | 成分1 | 成分 2 | 成分 3 | 評論 | 通用名稱 | 推薦高精度型 | 支持所需的特殊波長 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 半導體 | NH3_ _ | H2O2 _ _ _ | APM, SC1 | ||||
| 高頻 | |||||||
| 高頻 | 稀 | DHF | ○ | ○ | |||
| H2SO4 _ _ _ | H2O2 _ _ _ | SPM | |||||
| 高頻 | H2O2 _ _ _ | FPM | |||||
| 高頻 | H2O2 _ _ _ | 稀 | FPM | ○ | ○ | ||
| 高頻 | 鹽酸 | ○ | ○ | ||||
| 高頻 | H2SiF6 _ _ _ | ○ | |||||
| 人機交互 | H2O2 _ _ _ | HPM，SC2 | ○ | ||||
| 氫氧化鉀 | H2O2 _ _ _ | ||||||
| 氫氧化鈉 | H2O2 _ _ _ | ||||||
| H3PO4 _ _ _ | |||||||
| 高頻 | NH4F _ _ | ○ | |||||
| 高頻 | HNO3 _ | ○ | |||||
| 高頻 | H2O2 _ _ _ | CH3COOH _ _ | ◎ | ||||
| 液晶 | TMAH | 開發商 | |||||
| H3PO4 _ _ _ | HNO3 _ | CH3COOH _ _ | 蝕刻 | ◎ | |||
| H2SO4 _ _ _ | H2O2 _ _ _ | 銅 | 蝕刻 | ◎ | ○ | ||
| 水_ _ | 胺 | 溶劑 | 抗剝離 | ◎ | ○ | ||
| 其他 | 國際音標 | ||||||
| 水_ _ | 有機溶劑中的微量水 | ○ | |||||
| CH3COOH _ _ | C2H5OH _ _ _ _ | 尖酸刻薄 | ○ | ||||
| C2H5OH _ _ _ _ | 葡萄糖 | 清酒 | ○ | ○ |
