orbray小型基材清洗機(jī)介紹

發(fā)布日期：2023-08-21      瀏覽次數(shù)：533

orbray小型基材清洗機(jī)介紹

小型基材清洗機(jī)是專(zhuān)門(mén)對(duì)直徑小于2英寸的小型基材進(jìn)行清洗干燥的設(shè)備。
這是第一臺(tái)能夠?qū)π∮?英寸的小型基材進(jìn)行高水平清洗和干燥的設(shè)備。
迄今為止，要實(shí)現(xiàn)高度的清潔度還很困難，因?yàn)閷?duì)于新材料制成的基板和碎裂基板等小型基板的清洗方法一直無(wú)法獲得直徑為2英寸或以上的晶體。僅限于浸洗等方法。因此，在新材料基板尺寸達(dá)到2英寸之前，不可能制造出能夠發(fā)揮材料原有性能的器件。
為了清洗這樣的小型基板，小型基板清洗機(jī)除了在LED用藍(lán)寶石基板的制造過(guò)程中積累的清洗技術(shù)之外，還采用了新開(kāi)發(fā)的小型基板專(zhuān)用的清洗和干燥機(jī)構(gòu)。因此，小型基板清洗機(jī)即使對(duì)于小型基板也能發(fā)揮出高清洗性能，有力地支持了新材料的開(kāi)發(fā)和裝置化。

特征

適用于小基材的專(zhuān)用刷



新開(kāi)發(fā)的刷子在去除沉積物方面表現(xiàn)出高性能，并且對(duì)小基材的損傷較小




特殊旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu)



配備特殊的旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu)，即使對(duì)于小型基材也能抑制灰塵產(chǎn)生并實(shí)現(xiàn)無(wú)水印干燥。

可定制

還可以改變目標(biāo)基板的尺寸并自動(dòng)地從一個(gè)盒轉(zhuǎn)移到另一個(gè)盒。如果您有任何規(guī)格要求，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。

清潔目標(biāo)

非常適合清洗晶體材料，如 GaN、AlN、金剛石、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、生物芯片等。

洗手間布局



1. 基材轉(zhuǎn)移

2. PCB固定

3. 純凈水沖洗

4. 刷子清洗（使用清洗液）

5. 兆聲波清洗

6. 旋轉(zhuǎn)干燥

7. 基材轉(zhuǎn)移

清潔結(jié)果示例

<□5mm藍(lán)寶石基板>



<□5mm GaN襯底>



覆蓋基材原始表面的磨粒可以通過(guò)清洗去除。即使在容易損壞的GaN上也沒(méi)有形成潛在劃痕，并且確認(rèn)了清潔后沒(méi)有損壞。

CL：
電子束入射到樣品上時(shí)的陰極發(fā)光發(fā)射。通過(guò)對(duì)這種光進(jìn)行光譜分析，可以觀察晶體中的缺陷。

設(shè)備規(guī)格

除了以下代表性規(guī)格外，還可以進(jìn)行定制。我們還使用該設(shè)備提供合同清潔服務(wù)。請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。

設(shè)備名稱(chēng)	小板清洗機(jī)
清潔方法	單晶圓
工作尺寸	□3mm、□4mm、□5mm、φ0.5"、φ1"、φ2" （可提供φ3"、φ4"、φ6"，其他尺寸可根據(jù)要求訂制）
洗滌時(shí)間（推薦洗滌條件）	2分鐘/張（從裝料到卸料）
設(shè)備配置	基材轉(zhuǎn)移
	擦洗（可調(diào)節(jié)刷子高度）
	兆聲波清洗（頻率：950kHz）
	旋轉(zhuǎn)干燥（轉(zhuǎn)速：~3,000rpm）
	HEPA過(guò)濾器
裝置尺寸（毫米）	480 寬 x 600 深 x 1,680 高
設(shè)備重量（公斤）	200
公用事業(yè)	氣泵（外置）：0.5MPa以上
	純水（推薦清洗條件）：400ml/張
	電源：100VAC單相1,000W